 |
Desmear/Etchback |
|
MAGNUM GE-600 - 디스미어나 Etchback용 Non-ammoniated
type의 Glass Etch. MAGNUM K - 401 OXIDIZER
- Potassium-base로 된 과망간산 디스미어 공정에서 Hole 속 통전
신뢰성을 위해 Resin을 제거용. MAGNUM N - 501 OXIDIZER
- 고농축 액상 과망간산 Etch-back 공정에서 Hole 속의 최대 Resin 제거와 내층 층간
접촉 신뢰성을 목적으로 함. MAGNUM N-599 - Hole
내벽에 남겨진 Oxide 찌꺼기를 제거하는 약품. MAGNUM S-400
- 미생물에 의해 분해될 수 있고, 과망간산 용 감광성 resin 표면을 매우 효과적으로 처리하는
증감제.
|
|
|
 |
무 전해 도금 전처리 |
|
CIRCUTEK A-778 - 홀 내벽의 흡착을 증대하기 위해
촉매 표면을 변환 시키는 Accelerator. CIRCUTEK C-777
- 후 공정의 무전해 동도금을 위한 활성화된 콜로이드 파라듐 촉매제. CIRCUTEK
CC-710 - 무전해 동도금을 좀더 나은 Coverage의 형성하기 위해 표면을
강력히 활성 시켜 주는 알칼리Type의 cleaner/conditioner 임. CIRCUTEK
C-904 - Hole속 도금을 위한 알칼리 Type의 cleaner/conditioner
임 CIRCUTEK PD-776 - Catalyst Bath
내에 용수의 Drag-in을 방지하고 표면을 중화하는 Pre-dip 용액. CIRCUTEK
PD-776 S - CIRCUTEK PD-766의 Powder제품. CIRCUTEK
CU-825 - Copper colloidal catalyst. |
|
|
 |
무 전해 도금 |
|
CIRCUTEK PC 701 - 고속 무전해 동도금 공정;도금두께30분에
70-90 micro inches. CIRCUTEK EC 1050
- 염소성분 Base로 된 Room temperature의 표준속도 공정용 임. 15~30분에 25-50
m inches. |
|
|
 |
전기 도금 전처리 |
|
POSICLEAN®C - Non-etching, 인산 type의
Pattern 도금용 탈지제로 Soak 적용 용임. POSICLEAN® B
- Non-etching,염산type의 Pattern도금용 탈지제로 Soak 적용용임. POSICLEAN®M
- Non-etching,황산type의 Pattern 도금용 탈지제로 Soak 적용용임.
CIRCUTEK AC-300 - 전기도금 전에 감광제와 인쇄된 기판을
세정하기 위해 고안된 농축 산성 탈지제. |
|
|
 |
전기도금 |
|
CUBRITE PC-525 - 광택 전기동도금을 위한 첨가제.
뛰어난 열 응력을 지님. SOLDERPLATE SGR - peptone
type의 additive로 전해 solder도금용. CU BRITE CF-110
- 무 광택 전기 동도금 첨가제. CU BRITE PC-520
- CURRITE PC-525용 Carrier. |
|